產品及服務介紹

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VHAR1

VHAR1

    Chipmetrics VHAR1 矽測試晶片由一系列垂直高深寬比孔洞組成。

    在整個晶片面積 15 × 15 毫米 上,孔徑恆定為 1 微米,深度為 200 微米。

    沉積膜穿透深度輪廓的測量可以透過橫斷面來實現,如通常對垂直高縱橫比測試結構所做的那樣。

    網站
    https://chipmetrics.tw/

























































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    Atomic Layer Deposition (ALD)
    High Aspect Ratio
    ALD Deposition
    Conformal Coating
    ALD Process
    Thin Film Deposition
    Film Uniformity
    ALD Thickness Control
    High Aspect Ratio Structures
    Nano-scale Deposition
    ALD Surface Chemistry
    ALD Precursors
    ALD Monitoring
    Metrology for ALD
    Film Conformality
    Aspect Ratio Dependent Etching
    ALD Growth Mechanisms
    SEM
    FIB
    ASD (Area Selective Depostion)
    ALE (Atomic Layer Etching)

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