產品介紹

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Zenith-150

High Temperature RTP-CVD furnace up to 2000°C Zenith-150

Zenith-150

    高溫快速升溫製程設備
    Up to 2000°C

馬上詢價!

詳細說明

特性說明

• 鎢加熱系統
• 簡易基板/晶圓載入
• 不銹鋼冷壁系統
• 快速數位化PID溫度控制
• 高溫計控溫
• 可進行常壓或真空製程
• 最高可裝配8個氣體管路,搭配數位流量計
• PC控制搭配Ethernet通訊以快速載入資訊

 

應用領域

• SiC implant annealing / 碳化矽離子植入後退火
• CVD of graphene / 石墨烯CVD製備
• Graphene by high temperature SiC sublimation / 高溫碳化矽昇華法之石墨烯製配
• Etc.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 


  • Implant annealing
  • Contact annealing (III-V and SiC)
  • Rapid Thermal Oxidation (RTO)
  • Rapid Thermal Nitridation (RTN)
  • Selenization (CIGS solar cells)
  • Silicon carbonization
  • Sol-gel densification and crystallization
  • Diffusion from spin-on dopants
  •  
  • Simple and multi-metallic oxides
  • Metals, nitrides and alloys
  • III-V, wide band gap semiconductors
  • 2D and 3D materials
  • hBN, MoS2, WS2, MoSe2, WSe2, Graphene
  •  
  • SiC implant annealing
  • CVD of graphene
  • Graphene by high temperature SiC sublimation

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