製品紹介
AS-One
製品概要
特性說明:
- 可搭配4" (100 mm)及6" (150 mm)晶片
- 落地式系統可降低使用的樓地板面積
- 高信賴性及低總體成本
- 可搭配真空系統及製程氣體控制環境
- 不銹鋼冷壁式技術提供極高的製程再現性、潔淨度及無污染的環境,更擁有極快的降溫速度及低的記憶效應
- 高溫計搭配熱電耦型溫度計,再輔以最先進的數位PID控制,提供從低溫至高溫區段的精準溫度控制
- 邊緣高溫計的窺視窗可加強樣品座的溫度控制,提升化合物半導體及小樣品的溫度精準度
- 可提供客戶傑出的技術及製程支援
應用產業:
• RTA (Rapid Thermal Annealing) 快速升溫退火
• RTO (Rapid Thermal Oxidation) 快速升溫氧化
• Contact annealing 接觸層退火
• Implant annealing 摻雜退火
• CVD of graphene 石墨烯CVD
• CVD of carbon nanotube 奈米碳管CVD