產品及服務介紹

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AS-One 200

AS-One 200

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詳細說明

特性說明:

 

- 樣品尺寸可達200x200 mm2;;

- 落地式系統可降低使用的樓地板面積

- 高信賴性及低總體成本

- 不銹鋼冷壁式技術提供極高的製程再現性、潔淨度及無污染的環境,更擁有極快的降溫速度及低的記憶效應

- 上側燈源、下側燈源及上下側燈源等不同架構可供選擇,多區域的燈源控制以提升溫度均一性

- 高溫計搭配熱電耦型溫度計,再輔以最先進的數位PID控制,提供從低溫至高溫區段的精準溫度控制

- 邊緣高溫計的窺視窗可加強樣品座的溫度控制,提升化合物半導體及小樣品的溫度精準度

- 真空系統為標準備配,另有高真空系統(最低至10-6 mbar)可供選擇

應用產業:

 

• RTA (Rapid Thermal Annealing) 快速升溫退火

• RTO (Rapid Thermal Oxidation) 快速升溫氧化

• Diffusion 擴散

• Selenization, sulfuration 硒化、硫化

• Compound semiconductor annealing 化合物半導體退火

• Nitridation, Silicidation 氮化、矽化

• Crystallization and Densification 結晶化及緻密化

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 


  • Implant annealing
  • Contact annealing (III-V and SiC)
  • Rapid Thermal Oxidation (RTO)
  • Rapid Thermal Nitridation (RTN)
  • Selenization (CIGS solar cells)
  • Silicon carbonization
  • Sol-gel densification and crystallization
  • Diffusion from spin-on dopants
  •  
  • Simple and multi-metallic oxides
  • Metals, nitrides and alloys
  • III-V, wide band gap semiconductors
  • 2D and 3D materials
  • hBN, MoS2, WS2, MoSe2, WSe2, Graphene
  •  
  • SiC implant annealing
  • CVD of graphene
  • Graphene by high temperature SiC sublimation

 


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